重生，我在八十年代投机倒把第274节第4页_重生，我在八十年代投机倒把_么白

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推开会议室的大门，江小溪就看到了方主任和路院长，两个人见到她立刻站了起来，费院士给双方介绍了一下。

方主任热情地说道：“我对江总真是久仰大名，如雷贯耳啊。”

江小溪握着方主任的手说道：“方主任你好，谬赞了谬赞了。”

方主任说道：“哎，是江总谦虚了。”

然后对路院长说道：“你们都不知道吧，咱们华夏最大的助学基金会就是江总的私人基金会，已经成立八年了，建设了几百所希望小学，支持了数不清的贫困儿童上学，为国家输出了不少人才。最近还增设了出国留学的项目。”

江小溪诧异地看向方主任说道：“没想到方主任竟然这么了解基金会。”

方主任笑着说道：“哈哈，我就知道江总不记得了，我是齐眉齐主任的邻居，当时梦月的婚礼我也去了。齐主任总是跟我们这些老邻居跟前说起你。”

江小溪顿时不好意思起来，当时来的人太多，江小溪确实记不清了。

好在方主任并没哟在意，反而因为这层关系对江小溪十分亲切。

也正是因为对基金会有了解，所以知道江小溪的资产，所以他才起了和江小溪一起开展另外研究课题。

双方寒暄几句，方主任就直接进入了正题，提出了一个让江小溪惊讶的课题——arf光刻胶研究。

光刻胶，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。

光刻胶为光刻机的一项重要材料，而光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

第512章研究经费

对于光刻胶的发展，目前可以分为四个阶段，ktfr光刻胶、g线/i线光刻胶、krf光刻胶以及arf光刻胶。

arf光刻胶是世界最新的光刻胶技术，它继承了krf光刻胶的基础，也属于化学放大光刻胶。

半导体工艺开发联imec正式将arf光刻胶用作两千年下一代半导体0.13μm工艺的抗蚀剂。

只是相对于世界前沿的光刻胶技术，华夏的光刻胶发展简直称得上可怜。

华夏光刻胶的研究始于六七十年代，六七年的时候，华夏kpr型负性光刻胶就已经投产。

七零年，103b型、106型两种负胶投产，环化橡胶系负胶bn-302、bn-303也相继开发成功。

当时华夏的技术虽然比不上美国，但与日本研究时间相同，技术水平也相差无几。

只是之后因为种种原因，差距越来越大。

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